可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)

• 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板
• 紧凑型设计
• 低成本、经济型方案
• 交货快
• 安装简单、方便
• 易于工艺改造和提升

• 集成手套箱
• 紧凑型设计
• 经济型解决方案
• 配置简单
• 多源共蒸
• 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
• 两种型号可选: PROvap 4G 和 PROvap 5G
• 最多可实现8源共蒸
• PROvap 4G可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
• PROvap 5G可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

• 可单独使用
• 紧凑型设计
• 经济型解决方案
• 多源共蒸
• 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
• 两种型号可选: UNIvap 4S 和 UNIvap 5S
• 最多可实现8源共蒸
• UNIvap 4S可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
• UNIvap 5S可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板

• 模块化设计
• 可单独使用(S)或集成于手套箱(G)
• 不同的模块之间可实现自由组合
• 多基板&多掩模工艺
• 一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)
• OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板
• OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板

应用：

• 复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)
• 光学镀膜
• 光伏、半导体行业

小型PVD腔室，专门用于钙钛矿蒸镀

• 可集成于MBRAUN 手套箱(由过渡舱实现连接)
• 紧凑型设计
• 可用于50x50 mm大小的基板
• 可实现多源共蒸(4个蒸发源)
• 膜厚一致性标准偏差在+/-5%区间
• 经济型方案
• 交货快
• 有利于工艺改进和提升

专门用于钙钛矿蒸镀

• 研发型理想方案
• 专业的系统设计
• 前驱体专用蒸发源
  • 低温环境下可保持高度稳定性
• 标准化工艺流程
  • 高真空环境
  • 无交叉污染
• 可实现重复操作
• 可用于多种材料处理
• 设备使用寿命较长
• 专利申请中